Qpol Vibro (Saphir Vibro)振動(dòng)拋光機(jī)為得到無(wú)殘留變形的試樣制備表面而設(shè)計(jì)。它是進(jìn)一步材料表征的理想選擇，例如：EBSD（背散射電子衍射），AFM（原子力顯微鏡）分析和納米壓痕或顯微硬度測(cè)試的理想前序設(shè)備。

由于極為溫和的材料去除，該設(shè)備特別適用于軟質(zhì)和韌性材料，如鈦鋁，純銅和銅合金，鋁合金，鋼和鎳基合金。

直徑?= 308mm的大拋光池提供了足夠的空間來(lái)拋光填充滿試樣的夾具或大型試樣，可同時(shí)拋光多達(dá)21個(gè)鑲嵌試樣。 拋光池配備有雙磁性系統(tǒng)，可以快速固定、移除和清潔底槽或拋光布，無(wú)須任何工具或其它的附件。可使用適合磁性系統(tǒng)的直徑為300mm或305mm (12")的拋光布。

·       視所放入的試樣質(zhì)量的不同，自動(dòng)頻率控制會(huì)在60-120 Hz之間選擇最佳的振動(dòng)頻率，因而無(wú)需進(jìn)行手動(dòng)調(diào)整。

·       由于可以選擇幾乎不受限的拋光時(shí)間，Qpol Vibro配備有QATM Surface-Guard 防護(hù)功能。它抑制了制備程序結(jié)束后如果操作人員不在跟前而導(dǎo)致的拋光表面再結(jié)晶或腐蝕。

·       預(yù)先安裝好的制備方案和耗材清單，可視材料的不同進(jìn)行選擇

·       預(yù)安裝的耗材清單可以有客戶進(jìn)行編輯或擴(kuò)展

·       可儲(chǔ)存多達(dá)200個(gè)自定義制備方案

為實(shí)現(xiàn)最佳的工作條件，Qpol vibro配備有排氣連接插口，可連接外置排氣裝置。Qpol Vibro的吸振式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提供低噪音的操作。